等级
|
纯度%
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杂质含量1x10-6(v/v)
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铁离子含量
1x10-6(w/w) |
应用领域
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||||||
THC
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H2O
|
O2+Ar
|
H2
|
N2
|
CO
|
CO2
|
||||
5.0N
|
99.999
|
1.0
|
1.0
|
1.0
|
--
|
2.0
|
2.0
|
2.0
|
0.5
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单晶硅片气相抛光、外延,基座腐蚀。
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4.0N
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99.99
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5
|
5.0
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10
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20
|
20
|
10
|
30
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未检
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光伏、硅材料、化学试剂及胶片显影剂等精细化学品合成
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3.0N
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99.9
|
50
|
5.0
|
50
|
200
|
300
|
80
|
200
|
未检
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精细化工、医药工业。
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2.0N
|
99
|
3000
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5.0
|
500
|
2450
|
3500
|
500
|
45
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未检
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